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一种在碳基材料表面制备MoSi2涂层的方法

  • 申请号:CN201611214194.0
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海应用物理研究所
  • 公开(公开)号:CN106588122A
  • 公开(公开)日:2017.04.26
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种在碳基材料表面制备MoSi2涂层的方法
申请号 CN201611214194.0 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN106588122A 公开(授权)日 2017.04.26
申请(专利权)人 中国科学院上海应用物理研究所 发明(设计)人 邱杰;刘华剑;俞国军;刘崎;夏汇浩;谢雷东;侯惠奇
主分类号 C04B41/87(2006.01)I IPC主分类号 C04B41/87(2006.01)I;C04B35/52(2006.01)I
专利有效期 一种在碳基材料表面制备MoSi2涂层的方法 至一种在碳基材料表面制备MoSi2涂层的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种在碳基材料表面制备MoSi2涂层的方法。本发明将盐浴工艺与包埋渗硅工艺进行了有机结合,具有工艺操作简单、成本低的优点,并且特别适用于不规则形状的碳基材料部件,有利于规模化生产;不同于现有的以MoSi2粉末为包埋原料,通过高温烧结直接制备的涂层,本发明以盐浴法制备Mo2C过渡涂层,Mo2C深入钉扎到碳基材料内部,显著提高了涂层与基体的结合力;不同于现有的涂层硅化方法,本发明选择NiF2和/或FeF3作为活化剂,可有效降低涂层的制备温度(<1000℃,最低可达850℃),制备的涂层致密,没有裂纹缺陷。

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