
一种波导优化的掩埋异质结量子级联激光器
- 申请号:CN201610930814.4
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN106451074A
- 公开(公开)日:2017.02.22
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种波导优化的掩埋异质结量子级联激光器 | ||
申请号 | CN201610930814.4 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN106451074A | 公开(授权)日 | 2017.02.22 |
申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 王东博;刘舒曼;贾志伟;刘峰奇;王占国 |
主分类号 | H01S5/323(2006.01)I | IPC主分类号 | H01S5/323(2006.01)I;H01S5/223(2006.01)I;H01S5/40(2006.01)I |
专利有效期 | 一种波导优化的掩埋异质结量子级联激光器 至一种波导优化的掩埋异质结量子级联激光器 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种波导优化的掩埋异质结量子级联激光器结构。所述器件结构包括:一衬底(01);一下波导包层(02);一下限制层(03);一级联结构有源区(04);一上限制层(05);一上波导包层(06);一接触层(07);一横向分别限制层(08);一半绝缘InP层(09);一SiO2钝化层(10);一正面电极(11);一背面电极(12)。其中横向分别限制层(08)由掺Fe的半绝缘InGaAs构成,其厚度因激光器脊宽和激射波长的不同而不同。从接触层(07)到下波导包层(02)刻蚀出双沟窄脊台面,在双沟中填入半绝缘InP,为有源区提供横向散热通道;正面电极(11)与接触层(07)形成欧姆接触用于电注入,背面电极(12)与衬底(01)形成欧姆接触用于另一电注入。 |
交易流程
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