
调节光学元件边缘区域压强分布的抛光组件
- 申请号:CN201610836440.X
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号:CN106312797A
- 公开(公开)日:2017.01.11
- 法律状态:实质审查的生效
- 出售价格: 面议 立即咨询
专利详情
专利名称 | 调节光学元件边缘区域压强分布的抛光组件 | ||
申请号 | CN201610836440.X | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN106312797A | 公开(授权)日 | 2017.01.11 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明(设计)人 | 吴丽翔;魏朝阳;邵建达;刘振通 |
主分类号 | B24B39/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B39/00(2006.01)I;B24B13/00(2006.01)I;B24B55/00(2006.01)I |
专利有效期 | 调节光学元件边缘区域压强分布的抛光组件 至调节光学元件边缘区域压强分布的抛光组件 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种调节光学元件边缘区域压强分布的抛光组件,包括:行星双转子气压传动装置、关节式辅助施压机构和抛光盘,其特点在于所述的抛光盘的背面刻有同心圆沟槽,所述的关节式辅助施压机构由固定基座、活动关节和测力计组成。在光学元件边缘区域抛光过程中,通过该抛光组件对光学元件边缘区域压强分布进行调节,从而改变边缘区域材料去除量分布、达到抑制边缘效应的效果;另外,借助关节式辅助施压机构可有效减小振动幅度,从而提高抛光过程的可确定性。 |
交易流程
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