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一种用于光生阴极保护的NiSe2/TiO2复合纳米管阵列膜及其制备和应用

  • 申请号:CN201610709737.X
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院海洋研究所
  • 公开(公开)号:CN106119858A
  • 公开(公开)日:2016.11.16
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种用于光生阴极保护的NiSe2/TiO2复合纳米管阵列膜及其制备和应用
申请号 CN201610709737.X 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN106119858A 公开(授权)日 2016.11.16
申请(专利权)人 中国科学院海洋研究所 发明(设计)人 王秀通;韦秦怡;张巧霞;李红;李鑫冉;侯保荣
主分类号 C23F13/08(2006.01)I IPC主分类号 C23F13/08(2006.01)I;C25D9/04(2006.01)I;C25D11/26(2006.01)I
专利有效期 一种用于光生阴极保护的NiSe2/TiO2复合纳米管阵列膜及其制备和应用 至一种用于光生阴极保护的NiSe2/TiO2复合纳米管阵列膜及其制备和应用 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及一种复合纳米管光阳极,尤其是涉及一种用于光生阴极保护的NiSe2/TiO2复合纳米管阵列膜及其制备和应用。复合纳米管阵列膜的平均管径为60?70纳米,管厚为1.7?2微米;其中,NiSe2颗粒通过循环伏安电沉积的方法被修饰在TiO2基体纳米管管口周围。本发明材料与304不锈钢藕连可明显降低其腐蚀电位,具有实验操作简单易行,产品安全可靠、光电转换效率高、性能稳定的特点。

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