专利详情

专利名称	用于纳米颗粒的光谱椭偏拟合方法
申请号	CN201610363881.2	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106092861A	公开（授权）日	2016.11.09
申请（专利权）人	国家纳米科学中心	发明（设计）人	贺涛;王凯;褚卫国;张先锋
主分类号	G01N15/10(2006.01)I	IPC主分类号	G01N15/10(2006.01)I;G01N21/21(2006.01)I
专利有效期	用于纳米颗粒的光谱椭偏拟合方法至用于纳米颗粒的光谱椭偏拟合方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种用于纳米颗粒的光谱椭偏拟合方法，利用光谱椭偏仪，采用有效介质近似层和四步拟合方法，包括：在衬底上形成纳米颗粒材料层，得到第一模型，对纳米颗粒材料层进行直接拟合，得到初步实验结果；在纳米颗粒材料层上形成纳米颗粒材料与空气的混合层，使得到的第二模型符合实际纳米颗粒特征；去除纳米颗粒材料层，更改纳米颗粒材料与空气的混合层的厚度与比例参数，得到第三模型，使混合层包含从顶层到底层比例一致的纳米颗粒材料与空气，并对更改后的混合层进行拟合；将更改后的混合层改进为有效介质近似层进行拟合，获得纳米颗粒的光学性质信息。本方法能满足数学上的拟合度以及物理上的形貌特征，更准确的获取纳米颗粒光学性质信息。