专利详情

专利名称	聚二甲基硅氧烷的用途、荧光薄膜及其制备方法
申请号	CN201610348819.6	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN105968812A	公开（授权）日	2016.09.28
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	郝鹏;冯宇祥;吴一辉
主分类号	C08L83/04(2006.01)I	IPC主分类号	C08L83/04(2006.01)I;C08K5/01(2006.01)I;C08K5/3465(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I;C09K11/06(2006.01)I
专利有效期	聚二甲基硅氧烷的用途、荧光薄膜及其制备方法至聚二甲基硅氧烷的用途、荧光薄膜及其制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供了一种聚二甲基硅氧烷在制备荧光薄膜中的应用。与现有技术相比，本发明以聚二甲基硅氧烷作为荧光染料的溶剂及成膜基质，聚二甲基硅氧烷的紫外透过率较好，可与融石英玻璃基片形成单层减反射膜结构，增加光谱的透过率，且聚二甲基硅氧烷化学性质稳定，在使用之前即为液态胶体，80℃加热一小时即可固化，因此在制备过程及成膜后都十分安全、稳定，同时也可长期保持荧光薄膜的特性。