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一种金属元素Mg掺杂的VO2薄膜及其制备方法

  • 申请号:CN201610417173.2
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
  • 公开(公开)号:CN105937019A
  • 公开(公开)日:2016.09.14
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种金属元素Mg掺杂的VO2薄膜及其制备方法
申请号 CN201610417173.2 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN105937019A 公开(授权)日 2016.09.14
申请(专利权)人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明(设计)人 王盼盼;章俞之;张云龙;彭明栋;吴岭南;宋力昕
主分类号 C23C14/08(2006.01)I IPC主分类号 C23C14/08(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I
专利有效期 一种金属元素Mg掺杂的VO2薄膜及其制备方法 至一种金属元素Mg掺杂的VO2薄膜及其制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及一种金属元素Mg掺杂的VO2薄膜及其制备方法,所述金属元素Mg掺杂的VO2薄膜具有无规律分布的纳米气孔且主相为单斜相,晶面取向为(011)晶面,晶粒尺寸为90?nm~165?nm。本发明的有益效果是:将金属元素Mg均匀的掺入VO2薄膜内,得到的掺杂VO2薄膜表面有孔的产生,致密度减小,孔径大小随着Mg掺杂浓度的增加而减小,薄膜表面有孔产生,薄膜的致密度减小,且在可见?近红外波段的透过率增加,光的调制能力增强。

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