
一种金属元素Mg掺杂的VO2薄膜及其制备方法
- 申请号:CN201610417173.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
- 公开(公开)号:CN105937019A
- 公开(公开)日:2016.09.14
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种金属元素Mg掺杂的VO2薄膜及其制备方法 | ||
申请号 | CN201610417173.2 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN105937019A | 公开(授权)日 | 2016.09.14 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 发明(设计)人 | 王盼盼;章俞之;张云龙;彭明栋;吴岭南;宋力昕 |
主分类号 | C23C14/08(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/08(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I |
专利有效期 | 一种金属元素Mg掺杂的VO2薄膜及其制备方法 至一种金属元素Mg掺杂的VO2薄膜及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明涉及一种金属元素Mg掺杂的VO2薄膜及其制备方法,所述金属元素Mg掺杂的VO2薄膜具有无规律分布的纳米气孔且主相为单斜相,晶面取向为(011)晶面,晶粒尺寸为90?nm~165?nm。本发明的有益效果是:将金属元素Mg均匀的掺入VO2薄膜内,得到的掺杂VO2薄膜表面有孔的产生,致密度减小,孔径大小随着Mg掺杂浓度的增加而减小,薄膜表面有孔产生,薄膜的致密度减小,且在可见?近红外波段的透过率增加,光的调制能力增强。 |
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