专利详情

专利名称	溅射镀膜设备及其镀膜腔室
申请号	CN201710136620.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106893993A	公开（授权）日	2017.06.27
申请（专利权）人	深圳先进技术研究院	发明（设计）人	刘壮;崔骏;张撷秋;杨世航;陈旺寿;李霖;顾光一
主分类号	C23C14/35(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I
专利有效期	溅射镀膜设备及其镀膜腔室至溅射镀膜设备及其镀膜腔室	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种溅射镀膜设备及其镀膜腔室，镀膜腔室包括：外壳，所述外壳围成镀膜腔，所述外壳包括底壁、前壁及与所述前壁相对的后壁；阴极，设置于所述前壁上，且沿所述前壁排列；基架，可滑动地设置于所述底壁上，所述基架的运动方向与所述阴极排列的方向一致；支架，可转动地设置于所述基架上，所述支架能够承载样品；及，驱动机构，用于驱动所述支架转动。上述溅射镀膜设备及其镀膜腔室，采用了基架、支架及驱动机构相配合的结构，从进样到镀膜再到出样的过程中，样品均随着基架移动，以实现连续生产。同时，驱动机构能够驱动支架转动，以实现对非平面异形样品各个表面上的均匀镀膜。