
一种磁流变抛光面形误差收敛控制加工方法
- 申请号:CN201610590656.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 公开(公开)号:CN106826401A
- 公开(公开)日:2017.06.13
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种磁流变抛光面形误差收敛控制加工方法 | ||
申请号 | CN201610590656.2 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN106826401A | 公开(授权)日 | 2017.06.13 |
申请(专利权)人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明(设计)人 | 张学军;李龙响;薛栋林;王旭;张峰 |
主分类号 | B24B1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B1/00(2006.01)I |
专利有效期 | 一种磁流变抛光面形误差收敛控制加工方法 至一种磁流变抛光面形误差收敛控制加工方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明提供了一种磁流变抛光面形误差收敛控制加工方法,该方法能够以实际机床性能为基础,操作简单,可控性强,精度和效率高的磁流变抛光面形收敛控制方法。包括如下步骤:针对待加工光学表面的材料,选择磁流变液,并获取磁流变液针对材料的去除函数,对去除函数数值离散化处理得到去除函数矩阵R。在待加工光学表面上选取数据点,建立基于面形的收敛矩阵运算模型。根据驻留时间的约束域,获取初始面形误差的材料最小均匀附加厚度h。在h的基础上,建立面形残差的均方根值作为优化函数,在驻留时间约束域下,利用自适应正则化迭代和正投影最小二乘法,求解使得优化函数最小的驻留时间;根据驻留时间,对待加工光学表面进行磁流变加工。 |
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