专利详情

专利名称	利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法
申请号	CN201611133619.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106756863A	公开（授权）日	2017.05.31
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	才玺坤;武潇野;时光;张立超;隋永新;杨怀江
主分类号	C23C14/54(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/54(2006.01)I
专利有效期	利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法至利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性的方法，包括以下步骤：对所述大口径元件进行预处理，消除大口径元件内部残余应力；静置第一预设时间后，利用斐索干涉仪对大口径元件进行面形测量，并标记为初始面形W1；为大口径元件进行镀膜；静置第二预设时间后，利用斐索干涉仪再次对镀膜后的大口径元件进行面形测量，并标记为测试面形W2；利用公式ΔW＝W2?W1得到镀膜引起的元件面形改变量ΔW；利用面形改变量ΔW对膜厚修正挡板进行优化。本发明利用斐索干涉仪检测大口径元件膜厚均匀性，通过镀膜前后分别测量大口径元件的表面面形，将元件两次面形数据相减得到镀膜引起的面形改变量，精确反映了元件的膜厚均匀性水平。