专利详情

专利名称	一种双面光刻工件台
申请号	CN201610827264.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106371292A	公开（授权）日	2017.02.01
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	杜婧;赵立新;龚健文;杨春利
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	一种双面光刻工件台至一种双面光刻工件台	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种双面光刻工件台，包括基座、下掩模XYθ向运动台、下掩模调平机构、上掩模升降机构；基座为整个工件台的安装基准，由底板、支撑立柱与上板组成；下掩模XYθ向运动台与底板连接，通过导轨滑体、交叉滚柱轴环等结构实现下掩模相对上掩模在X、Y、θ方向上的运动；下掩模调平机构与下掩模XYθ向运动台连接，半球、球碗与弹簧机构实现上掩模在下降过程中与下掩模的调平，气缸锁紧和球碗真空吸附机构实现对调平机构的锁紧；上掩模升降机构由电机带动精密滚珠丝杠实现驱动，开口型直线滚珠导套和精密光轴作为导向，实现上掩模在放片时的上升运动和对准曝光时的下降运动。本发明具有生产效率高、操作方便、对准精度和曝光分辨率较高的优点。