专利详情

专利名称	一种线条粗糙度的测量方法及系统
申请号	CN201610645840.2	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106352820A	公开（授权）日	2017.01.25
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	张利斌;韦亚一
主分类号	G01B15/08(2006.01)I	IPC主分类号	G01B15/08(2006.01)I
专利有效期	一种线条粗糙度的测量方法及系统至一种线条粗糙度的测量方法及系统	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种线条粗糙度的测量方法及系统，确定多个像素阈值，并获得每个像素阈值下的边缘分布，在对边缘分布进行分析后，获得每个像素阈值下的线条粗糙度，通过对所有像素阈值下的线条粗糙度进行比较，选择线条粗糙度连续变化时的最小值作为待测结构的线条粗糙度。在该方法中，采用多像素阈值的方法，每次测试中对所有像素阈值下的线条粗糙度进行比较，选择线条粗糙度连续变化时的最小值作为待测结构的线条粗糙度，该线条粗糙度为最佳像素阈值下的测量值，测试结果更具有准确性，对于不同批次产品的测量，最佳像素阈值下的测量值为动态获得的，测试结果具有准确性和稳定性，能够真实反映刻蚀工艺是否达标，利于提高产品的良率和性能。