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一种可实现离轴反射镜高低点位置精确测量的系统

  • 申请号:CN201821258156.X
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN208333382U
  • 公开(公开)日:2019.01.04
  • 法律状态:
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种可实现离轴反射镜高低点位置精确测量的系统
申请号 CN201821258156.X 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN208333382U 公开(授权)日 2019.01.04
申请(专利权)人 中国科学院西安光学精密机械研究所 发明(设计)人 宋兴;张学敏;杨建峰
主分类号 G01B11/02(2006.01)I IPC主分类号 G01B11/02(2006.01)I
专利有效期 一种可实现离轴反射镜高低点位置精确测量的系统 至一种可实现离轴反射镜高低点位置精确测量的系统 法律状态
说明书摘要 本实用新型属于光学检测领域,尤其涉及一种一种可实现离轴反射镜高低点位置精确测量的系统。本实用新型解决了离轴反射镜在加工过程中以及装调过程中难以精确标定高低点位置的问题。本实用新型可精确标定离轴抛物面反射镜高低点位置的系统,包括平台、激光干涉仪、平面反射镜、第一经纬仪、第二经纬仪和第三经纬仪;激光干涉仪、平面反射镜、第一经纬仪、第二经纬仪和第三经纬仪均设置在平台上;第一经纬仪和第三经纬仪位于平台的两侧,第一经纬仪的光轴和第三经纬仪的光轴均与大地水平,且二者处于同一直线上;平面反射镜、第二经纬仪和待测的离轴抛物面反射镜均位于平台的中部,且均位于第一经纬仪和第二经纬仪连线的一侧。

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