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用于金属光学薄膜的孤立导体处理结构

  • 申请号:CN201820901612.1
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所
  • 公开(公开)号:CN208224570U
  • 公开(公开)日:2018.12.11
  • 法律状态:
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专利详情

专利名称 用于金属光学薄膜的孤立导体处理结构
申请号 CN201820901612.1 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN208224570U 公开(授权)日 2018.12.11
申请(专利权)人 中国科学院上海技术物理研究所 发明(设计)人 宋崇金;席红霞;曲海波;陈丽;安俊洁
主分类号 G02B7/00(2006.01)I IPC主分类号 G02B7/00(2006.01)I;G02B1/10(2015.01)I;H01R4/04(2006.01)I;H01R13/15(2006.01)I
专利有效期 用于金属光学薄膜的孤立导体处理结构 至用于金属光学薄膜的孤立导体处理结构 法律状态
说明书摘要 本专利公开了一种用于金属光学薄膜的孤立导体处理结构。即在光学器件安装槽的四个角处设计圆形缺口,圆形缺口中心有金属立柱,将弹性金属薄片沿着金属机座圆形缺口和金属立柱之间的缝隙放入,弹性金属薄片的两端依靠弹性变形恢复力紧贴在事先用硅橡胶固定的光学器件的金属光学薄膜上,在金属机座的圆形缺口和金属立柱之间的缝隙内点加导电胶将金属机座和弹性金属薄片固定在一起。本专利的优点在于结构导通接触良好,操作方便,弹性金属薄片表面进行抛光处理且柔性接触对光学元器件无损伤。

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