一种强电离辐射环境下的温度测量系统
- 申请号:CN201820693659.3
- 专利类型:实用新型
- 申请(专利权)人:中国科学院高能物理研究所
- 公开(公开)号:CN208206333U
- 公开(公开)日:2018.12.07
- 法律状态:
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专利详情
专利名称 | 一种强电离辐射环境下的温度测量系统 | ||
申请号 | CN201820693659.3 | 专利类型 | 实用新型 |
公开(公告)号 | CN208206333U | 公开(授权)日 | 2018.12.07 |
申请(专利权)人 | 中国科学院高能物理研究所 | 发明(设计)人 | 杨俊亮;张小威;赵越;朱晔;李瑭 |
主分类号 | G01K11/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G01K11/00(2006.01)I |
专利有效期 | 一种强电离辐射环境下的温度测量系统 至一种强电离辐射环境下的温度测量系统 | 法律状态 | |
说明书摘要 | 本实用新型公开了一种强电离辐射环境下的温度测量系统。本系统包括光源、波长选择器、探测器和机械控制测量装置;其中,该波长选择器仅允许经待测晶体表面产生的中心波长为λ的衍射光束输出;所述光源,用于产生入射到待测晶体表面的入射光束;所述机械控制测量装置分别与该波长选择器、待测晶体连接,用于调整该波长选择器的位置,使其接收入射光束经该待测晶体表面产生的中心波长为λ的衍射光束;以及改变该待测晶体与入射光束之间的入射角度;所述探测器,用于测量该波长选择器输入的光束强度。本实用新型既解决了强电离辐射环境下温度测量问题,同时也精确测得了强电离辐射环境下晶体表面的温度值。 |
交易流程
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