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窄禁带半导体中少数载流子空间分布的测量装置

  • 申请号:CN201820500321.1
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所
  • 公开(公开)号:CN208224427U
  • 公开(公开)日:2018.12.11
  • 法律状态:
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专利详情

专利名称 窄禁带半导体中少数载流子空间分布的测量装置
申请号 CN201820500321.1 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN208224427U 公开(授权)日 2018.12.11
申请(专利权)人 中国科学院上海技术物理研究所 发明(设计)人 李天信;谢天;夏辉;童中英;陆卫
主分类号 G01R31/26(2014.01)I IPC主分类号 G01R31/26(2014.01)I;G01Q60/46(2010.01)I
专利有效期 窄禁带半导体中少数载流子空间分布的测量装置 至窄禁带半导体中少数载流子空间分布的测量装置 法律状态
说明书摘要 本专利公开了一种窄禁带半导体中少数载流子空间分布的测量装置,该装置中包括试样表面处理模块,低温扫描电容显微测量模块,微分电容测量控制模块和红外光激发模块。待测材料在试样表面处理腔中经处理后,输送至低温扫描电容显微测量真空腔中的低温试样台上,分别在红外光激发和暗背景条件下进行微分电容显微分布的测量,最后将测得的微分电容信号差值,得到由光激发少数载流子引起的微分电容信号分布。本专利适用于多数窄禁带半导体材料,能够在接近工作状态下实现对材料中少数载流子分布的灵敏测量,空间分辨率足以解析红外光电功能结构中PN结等关键区域,对评估半导体材料特性、预测和优化器件性能有重要的意义。

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