专利详情

专利名称	用于光刻机系统的在线检测装置
申请号	CN201820656769.2	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN208207508U	公开（授权）日	2018.12.07
申请（专利权）人	中国科学院光电研究院	发明（设计）人	苏佳妮;齐月静;卢增雄;杨光华;王宇
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	用于光刻机系统的在线检测装置至用于光刻机系统的在线检测装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型涉及光刻机性能参数的检测技术领域，具体涉及一种用于光刻机系统的在线检测装置。本实用新型旨在解决投影物镜在安装前后检测到的数值孔径存在差异的技术问题。为此目的，本实用新型提供了一种用于光刻机系统的在线检测装置，该在线检测装置包括能够设置于掩模台上的散射元件、能够设置于工件台上的数值孔径测量装置，光源经散射元件的散射光束覆盖投影物镜并通过投影物镜投影在数值孔径测量装置上，数值孔径测量装置能够根据散射光束投影在数值孔径测量装置上的投影光束检测投影物镜的数值孔径。本实用新型的在线检测装置能够对安装完成后的投影物镜的数值孔径进行原位在线、快速测量，从而提高投影物镜的数值孔径检测准确性。