专利详情

专利名称	应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台
申请号	CN201710495565.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN107102518A	公开（授权）日	2017.08.29
申请（专利权）人	中国科学技术大学	发明（设计）人	王亮;张亮;秦金;谭浩森;许凯
主分类号	G03F9/00(2006.01)I	IPC主分类号	G03F9/00(2006.01)I
专利有效期	应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台至应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种应用于近场扫描光刻的高精度被动对准的柔性台，包括上端台面、下端台面、基底，上端台面与下端台面之间通过双正交柔性铰链连接，掩膜通过真空吸附腔吸附在下端台面上，再放置在基底上。双正交柔性铰链包括两个正交的正圆柔性铰链。运行过程中，一定的法向压力从掩膜版、基底接触面上给出，经部件内的各个铰链分散传递，从而使得固定于下端台面的掩膜与下部的基底实现动态的、被动的紧密接触，有效地提高了光刻装置的对准效率，由于不存在过多的光电传感器，可在不损失对准精度的条件下最快速的实现被动校准。