专利详情

专利名称	用于大面积激光直写系统的多次迭代调平方法
申请号	CN201710175690.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN107045266A	公开（授权）日	2017.08.15
申请（专利权）人	国家纳米科学中心	发明（设计）人	王闯;张浩然;刘前
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	用于大面积激光直写系统的多次迭代调平方法至用于大面积激光直写系统的多次迭代调平方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种用于大面积激光直写系统的多次迭代调平方法，包括步骤：S1：获取待激光直写区域的三维数据，根据获取的三维数据进行平面拟合；S2：将S1拟合的平面与理想平面比较，通过容错拟合算法进行计算，指导执行器调平；S3：根据调平结果再次进行平面拟合，如果没达到设计精度要求则重复迭代，直至达到精度要求；S4：使执行器执行到最后一次迭代过程计算出的目标位置，进行激光直写。本发明提出的用于大面积激光直写系统的调平方法，可使得系统在金属薄膜、无机相变材料、光刻胶或复合薄膜等多种材料上的调平精度均达到100nm以内，有效保证了激光直写系统刻写激光的精确聚焦，从而大幅度提高样品大面积刻写的刻写质量和成品率。