
一种全光固态超快光探测器的制备方法
- 申请号:CN201710058864.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所
- 公开(公开)号:CN106935681A
- 公开(公开)日:2017.07.07
- 法律状态:实质审查的生效
- 出售价格: 面议 立即咨询
专利详情
专利名称 | 一种全光固态超快光探测器的制备方法 | ||
申请号 | CN201710058864.2 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN106935681A | 公开(授权)日 | 2017.07.07 |
申请(专利权)人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明(设计)人 | 曹伟伟;王博;徐鹏;白永林;白晓红;朱炳利;缑永胜;秦君军;刘白玉 |
主分类号 | H01L31/18(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L31/18(2006.01)I;H01L31/09(2006.01)I;H01L31/0735(2012.01)I;H01L31/0216(2014.01)I;H01L31/0232(2014.01)I |
专利有效期 | 一种全光固态超快光探测器的制备方法 至一种全光固态超快光探测器的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明属于超快诊断技术和半导体技术领域,具体涉及一种全光固态超快光探测器的制备方法,其特殊之处在于:包括以下步骤:1)在GaAs衬底上生长腐蚀停层,然后在腐蚀停层上低温生长2?5um的低温GaAs作为功能材料层,所述GaAs衬底、腐蚀停层和功能材料层共同组成外延片;2)在外延片的功能材料层上蒸镀多层介质膜作为上DBR;3)在石英基片上旋涂紫外固化胶,然后将镀完上DBR的外延片倒扣在带胶的石英基片上;4)将GaAs衬底逐渐减薄,直至使GaAs衬底消失并露出腐蚀停层;5)在露出的腐蚀停层上镀多层介质膜作为下DBR。主要解决了全光固态超快光探测器制作难度高的问题。 |
交易流程
-
01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
- 04 上报材料
-
05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
- 07 交付证书
过户资料
平台保障
1、源头对接,价格透明
2、平台验证,实名审核
3、合同监控,代办手续
4、专员跟进,交易保障
- 用户留言
暂时还没有用户留言