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一种全光固态超快光探测器的制备方法

  • 申请号:CN201710058864.2
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN106935681A
  • 公开(公开)日:2017.07.07
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种全光固态超快光探测器的制备方法
申请号 CN201710058864.2 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN106935681A 公开(授权)日 2017.07.07
申请(专利权)人 中国科学院西安光学精密机械研究所 发明(设计)人 曹伟伟;王博;徐鹏;白永林;白晓红;朱炳利;缑永胜;秦君军;刘白玉
主分类号 H01L31/18(2006.01)I IPC主分类号 H01L31/18(2006.01)I;H01L31/09(2006.01)I;H01L31/0735(2012.01)I;H01L31/0216(2014.01)I;H01L31/0232(2014.01)I
专利有效期 一种全光固态超快光探测器的制备方法 至一种全光固态超快光探测器的制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明属于超快诊断技术和半导体技术领域,具体涉及一种全光固态超快光探测器的制备方法,其特殊之处在于:包括以下步骤:1)在GaAs衬底上生长腐蚀停层,然后在腐蚀停层上低温生长2?5um的低温GaAs作为功能材料层,所述GaAs衬底、腐蚀停层和功能材料层共同组成外延片;2)在外延片的功能材料层上蒸镀多层介质膜作为上DBR;3)在石英基片上旋涂紫外固化胶,然后将镀完上DBR的外延片倒扣在带胶的石英基片上;4)将GaAs衬底逐渐减薄,直至使GaAs衬底消失并露出腐蚀停层;5)在露出的腐蚀停层上镀多层介质膜作为下DBR。主要解决了全光固态超快光探测器制作难度高的问题。

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