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电子束蒸发倾斜沉积镀膜装置及使用方法

  • 申请号:CN201710000701.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN106756814A
  • 公开(公开)日:2017.05.31
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 电子束蒸发倾斜沉积镀膜装置及使用方法
申请号 CN201710000701.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN106756814A 公开(授权)日 2017.05.31
申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明(设计)人 齐红基;靳亚雪;王斌;袁佳丽
主分类号 C23C14/30(2006.01)I IPC主分类号 C23C14/30(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I
专利有效期 电子束蒸发倾斜沉积镀膜装置及使用方法 至电子束蒸发倾斜沉积镀膜装置及使用方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种电子束蒸发倾斜沉积镀膜装置及使用方法,该装置包括角度准直装置、基片安装夹具、连接螺柱、连接筒、步进电机、步进电机驱动器和计算机,特点在于由基片安装夹具、角度准直装置及其连接螺柱构成倾斜沉积镀膜装置,具有多个不同角度倾斜的电子束蒸发沉积通道,本发明一次镀膜可以实现多片倾斜角度一致或者不一致的“雕塑”薄膜,具有结构简单,性能稳定,可操作性强等特点。

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