椭偏仪测量超薄膜层的精度提升方法和装置
- 申请号：CN201610852448.5
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号：CN106403830A
- 公开(公开)日：2017.02.15
- 法律状态：公开
- 出售价格： 面议 立即咨询
专利详情
| 专利名称 | 椭偏仪测量超薄膜层的精度提升方法和装置 | ||
| 申请号 | CN201610852448.5 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN106403830A | 公开（授权）日 | 2017.02.15 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 胡国行;单尧;贺洪波;赵元安;谷利元;曾爱军 |
| 主分类号 | G01B11/06(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/06(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I |
| 专利有效期 | 椭偏仪测量超薄膜层的精度提升方法和装置 至椭偏仪测量超薄膜层的精度提升方法和装置 | 法律状态 | 公开 |
| 说明书摘要 | 一种提升椭偏仪测量超薄膜层精度的装置，包括直角三棱镜、平凸球面透镜、超薄膜层和玻璃基底。通过在椭偏仪中引入Otto结构激发表面等离子体共振，利用微米尺度光束测试分析椭偏参数随入射波长、入射角度、空气隙厚度的变化曲线，拟合椭偏参数曲线获得超薄膜层的厚度和光学常数。表面等离子体共振对膜层光学常数非常敏感，椭偏技术可以同时获得Ψ和Δ，两者相结合因此可以提升椭偏测试精度。 | ||
交易流程
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