专利详情

专利名称	一种真空离心浸渍装置
申请号	CN201611055745.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106384664A	公开（授权）日	2017.02.08
申请（专利权）人	中国科学院电工研究所	发明（设计）人	孙万硕;王秋良;程军胜;李兰凯;陈顺中;崔春艳;戴银明
主分类号	H01F41/12(2006.01)I	IPC主分类号	H01F41/12(2006.01)I;H01F6/06(2006.01)I;B05C9/14(2006.01)I;B05C13/02(2006.01)I;B05C3/109(2006.01)I
专利有效期	一种真空离心浸渍装置至一种真空离心浸渍装置	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种真空离心浸渍装置，包括真空浸渍罐(3)和真空混料罐(11)，两个罐体连接有加热装置。真空混料罐(11)内的搅拌桨(13)通过真空混料罐外的电机(12)控制其转速；输液管道(9)通过真空混料罐(11)底部的出料口连接到真空浸渍罐(3)顶部的进料口；输液管道(9)上，在真空浸渍罐(3)顶部的进料口处装有进料口阀门(6)，在真空混料罐(11)底部的出料口处装有出料口阀门(10)。在所述的真空浸渍罐(3)内底部安装有旋转台(5)，旋转台(5)与真空浸渍罐外的旋转电机(1)连接，通过真空浸渍罐外的旋转电机(1)控制其转速；超导线圈(4)固定在旋转台(5)上。