专利详情

专利名称	等离子体射流装置及抑制环氧树脂表面电荷积聚的方法
申请号	CN201610509779.9	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106132056A	公开（授权）日	2016.11.16
申请（专利权）人	中国科学院电工研究所	发明（设计）人	邵涛;海彬;王瑞雪;任成燕;章程;严萍
主分类号	H05H1/26(2006.01)I	IPC主分类号	H05H1/26(2006.01)I;C08J7/06(2006.01)I;C08L63/00(2006.01)N
专利有效期	等离子体射流装置及抑制环氧树脂表面电荷积聚的方法至等离子体射流装置及抑制环氧树脂表面电荷积聚的方法	法律状态	著录事项变更
说明书摘要	本发明涉及一种等离子体射流装置及抑制环氧树脂表面电荷积聚的方法。一种等离子体射流装置，包括：中空金属毛细管，其外部套有石英玻璃管，二者组合为大气压等离子体射流的射流管，所述射流管接高压电源同时接地，且所述中空金属毛细管的顶端设有进气口；加热平台，其位于所述射流管底部，所述加热平台上放置样品，且所述加热平台接地。本发明所述装置结构简单，方法简便易行、效果持久、处理效率高、对环境影响小，因此适合于工业生产应用。