专利详情

专利名称	一种基于双导轨的多光栅刻刀式光栅刻划刀架系统
申请号	CN201610647212.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106019442A	公开（授权）日	2016.10.12
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	唐玉国;李晓天;马振予;于海利;齐向东;吉日嘎兰图;于宏柱;张善文;巴音贺希格
主分类号	G02B5/18(2006.01)I	IPC主分类号	G02B5/18(2006.01)I
专利有效期	一种基于双导轨的多光栅刻刀式光栅刻划刀架系统至一种基于双导轨的多光栅刻刀式光栅刻划刀架系统	法律状态	著录事项变更
说明书摘要	本申请提供一种基于双导轨的多光栅刻刀式光栅刻划刀架系统，包括主机座、工作台、平行设置的第一导轨和第二导轨、第一滑套、第二滑套、连接第一滑套和第二滑套的滑套连接架、测量反射镜、可拆卸地安装在所述滑套连接架上的n个刻划刀架装置，n为大于等于2的正整数。本申请仅采用两个导轨即可实现多个光栅刻划刀架同时对整个光栅基底进行刻划的目的，相对于现有技术中采用多个刻划系统各配置一个光栅刻刀来实现大面积光栅刻划，节省了导轨的使用量，使得资源利用率更高。另外，多个刻划刀架装置与滑套连接架之间为可拆卸连接，当需要调节刻划刀架装置时，仅需要调节滑套连接架上的刻划刀架装置的个数以及位置即可，其他装置无需进行调节。