一种照明深度可调的宽波段光源超分辨表层显微成像方法
- 申请号:CN201610556663.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号:CN105954866A
- 公开(公开)日:2016.09.21
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种照明深度可调的宽波段光源超分辨表层显微成像方法 | ||
申请号 | CN201610556663.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN105954866A | 公开(授权)日 | 2016.09.21 |
申请(专利权)人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明(设计)人 | 罗先刚;赵泽宇;王长涛;孔维杰;王彦钦;刘凯鹏;刘玲;蒲明博;高平;王炯 |
主分类号 | G02B21/06(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B21/06(2006.01)I;G02B27/58(2006.01)I |
专利有效期 | 一种照明深度可调的宽波段光源超分辨表层显微成像方法 至一种照明深度可调的宽波段光源超分辨表层显微成像方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开一种照明深度可调的宽波段光源超分辨表层显微成像方法,其中,用于所述超分辨表层显微成像的照明器件从下到上依次包括:透明基底,光栅,金属/介质多层膜层;所述显微成像方法利用金属/介质多层膜层在光栅的激发下产生的深亚波长体等离子体(BPPs)模式,作为显微成像时的照明场,可在可见光及紫外光波段实现待测样品5nm?300nm的表层超分辨成像。该方法有望应用于活细胞中细胞质膜的实时在线显微成像,应用广泛。本发明不仅可对待测样品进行纵向照明深度的调节,也可横向提高图像的空间分辨率,大大提高了样品表层成像质量。 |
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