一种均相阴离子交换膜及其制备方法
- 申请号：CN201610285196.2
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：中国科学技术大学
- 公开(公开)号：CN105903357A
- 公开(公开)日：2016.08.31
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种均相阴离子交换膜及其制备方法 | ||
| 申请号 | CN201610285196.2 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN105903357A | 公开（授权）日 | 2016.08.31 |
| 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 徐铜文;吴亮;潘麒 |
| 主分类号 | B01D71/30(2006.01)I | IPC主分类号 | B01D71/30(2006.01)I;B01D69/02(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种均相阴离子交换膜及其制备方法 至一种均相阴离子交换膜及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种均相阴离子交换膜及其制备方法，其特征在于首先将高分子增强剂溶于由对氯甲基苯乙烯和苯乙烯构成的混合溶液中，随后依次加入带端烯基的咪唑类小分子和不带端烯基的咪唑类小分子，搅拌均匀得到季胺化的膜液；然后将膜液涂在涂膜板上，加热固化，即获得阴离子交换膜。本发明的方法操作简便、迅速和安全；制得的膜具有均相性能稳定、离子交换容量高、机械强度高、韧性好等特点，可系列化开发，满足不同应用领域的需要。 | ||
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