一种原位纳米压制减反增透表面结构及其制备方法
- 申请号:CN201510555817.X
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院理化技术研究所
- 公开(公开)号:CN106483591A
- 公开(公开)日:2017.03.08
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种原位纳米压制减反增透表面结构及其制备方法 | ||
申请号 | CN201510555817.X | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN106483591A | 公开(授权)日 | 2017.03.08 |
申请(专利权)人 | 中国科学院理化技术研究所 | 发明(设计)人 | 贺军辉;张晓婕 |
主分类号 | G02B1/118(2015.01)I | IPC主分类号 | G02B1/118(2015.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
专利有效期 | 一种原位纳米压制减反增透表面结构及其制备方法 至一种原位纳米压制减反增透表面结构及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开一种原位纳米压制减反增透表面结构及其制备方法。所述表面结构包括含有聚合物成分的基底,或者其上涂覆至少一层含有聚合物成分的涂层的基底,以及位于外表面的具有减反增透性能的单层纳米粒子;所述纳米粒子的一部分嵌入含有聚合物成分的基底,或者嵌入基底最外层的含有聚合物成分的涂层中,另一部分裸露在外;所述纳米粒子的粒径为2nm-1μm;所述纳米粒子的嵌入体积至少为其自身体积的2%。本发明首次提出原位纳米压制技术,并且首次将原位纳米压制技术用于制备减反增透表面结构,无需专门的模板,制备方法简单,大大节约了操作成本,并且所获得的表面结构机械性能优越,能够耐受擦洗,且具有良好的减反增透效果。 |
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