专利详情

专利名称	一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法
申请号	CN201510963031.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106238427A	公开（授权）日	2016.12.21
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	邓文渊;金春水;姚舜;喻波;靳京城
主分类号	B08B11/00(2006.01)I	IPC主分类号	B08B11/00(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I
专利有效期	一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法至一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及极紫外光刻技术领域，具体公开一种极紫外光学元件表面清洗装置及清洗方法。本发明的极紫外光学元件表面清洗装置包括清洗腔体；设置于清洗腔体外两侧的进气口和出气口；设置于清洗腔体内的样品支撑调节台、紫外光发生装置、CO₂浓度监控装置、O₃浓度监控装置；还包括工作气体控制装置、控制电路以及控制终端。本发明清洗装置和清洗方法，能有效实现极紫外光学元件表面污染的彻底清洗，同时防止极紫外光学元件表面发生氧化，提高极紫外光学元件潜在的长期使用寿命；能够保证排出气体的安全性，降低清洗过程对实验室环境和实验人员安全健康的影响。