专利详情

专利名称	大气环境下超滑纳米晶-非晶碳薄膜的制备方法
申请号	CN201610371967.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106011794A	公开（授权）日	2016.10.12
申请（专利权）人	中国科学院兰州化学物理研究所	发明（设计）人	张俊彦;曹忠跃;强力;张斌
主分类号	C23C16/503(2006.01)I	IPC主分类号	C23C16/503(2006.01)I;C23C16/26(2006.01)I;C23C16/27(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I
专利有效期	大气环境下超滑纳米晶-非晶碳薄膜的制备方法至大气环境下超滑纳米晶-非晶碳薄膜的制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种大气环境下超滑纳米晶?非晶碳薄膜的制备方法，该制备方法包括以下步骤：将预清洁后的硅片放入丙酮、乙醇中超声清洗，然后转移至等离子体增强化学气相沉积设备的真空腔下部基底盘上，基底盘与负偏压电源相连；抽真空直到小于1.0×10^?3帕；通入氩气，在直流偏压500~800?V条件下进行等离子体清洗，用以除去表面残留的杂质和污染物；通入甲烷和氮气，在直流偏压780~820?V条件下镀膜20~40分钟；通入甲烷和氢气，在直流偏压为780~820V条件下镀膜90~120分钟。本发明所获得的薄膜呈现了纳米晶?非晶特征，具有较高的硬度和弹性，以及优异的摩擦学性能（摩擦系数可持续维持在0.005左右，磨损率达到了~10^?17m³/N/m级别）。