集成纳米结构的MEMS红外光源及其制备方法
- 申请号:CN201610798788.4
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号:CN106374019A
- 公开(公开)日:2017.02.01
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 集成纳米结构的MEMS红外光源及其制备方法 | ||
申请号 | CN201610798788.4 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN106374019A | 公开(授权)日 | 2017.02.01 |
申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 明安杰;刘卫兵;李超波;王玮冰;陈大鹏 |
主分类号 | H01L33/00(2010.01)I | IPC主分类号 | H01L33/00(2010.01)I;H01L33/36(2010.01)I;H01L33/44(2010.01)I;B81B7/02(2006.01)I |
专利有效期 | 集成纳米结构的MEMS红外光源及其制备方法 至集成纳米结构的MEMS红外光源及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开一种集成纳米结构的MEMS红外光源及其制备方法。所述集成纳米结构的MEMS红外光源包括承载衬底、支撑层、隔离层、图形化金属电极以及纳米材料辐射层;所述纳米材料辐射层覆盖在图形化金属电极上;所述图形化金属电极设于隔离层上方;所述隔离层设于支撑层上方;所述纳米材料辐射层、图形化电极、隔离层、支撑层均悬浮于所述承载衬底上。本发明可以大幅减少热传导通路,降低热质量,提高红外光源的性能;并且避免后续干法释放对结构的损坏,提高了结构稳定性。 |
交易流程
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