专利详情

专利名称	一种用于红外光谱衬底的制备方法
申请号	CN201610608505.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106198435A	公开（授权）日	2016.12.07
申请（专利权）人	国家纳米科学中心	发明（设计）人	胡海;胡德波;刘瑞娜;白冰;杨晓霞;戴庆
主分类号	G01N21/35(2014.01)I	IPC主分类号	G01N21/35(2014.01)I
专利有效期	一种用于红外光谱衬底的制备方法至一种用于红外光谱衬底的制备方法	法律状态	著录事项变更
说明书摘要	本发明提供了一种红外光谱衬底的制备方法，包括如下步骤：1)选取支撑基底；2)利用机械加工、干法或者湿法刻蚀的方法，在支撑基底上制备通孔结构；3)转移衬底材料和其保护层至通孔表面：利用标准的湿法转移工艺，将衬底材料和其保护层转移至样品表面，将样品晾干并且加热使得转移的薄膜与基底贴合紧密；4)对通孔的背面进行密封：利用另一块基底材料贴合至背面通孔处，使用玻璃胶将背面的通孔密封；5)去除样品表面的保护层：将样品放置于丙酮或者去保护层溶剂里，去除表面的保护层；6)拆除样品背面的密封结构：将样品清洗干净并且晾干以后拆除背面的密封基底。