L10?MnGa或MnAl基宽线性响应磁敏传感器及制备方法
- 申请号:CN201610496714.5
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN106129244A
- 公开(公开)日:2016.11.16
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | L10?MnGa或MnAl基宽线性响应磁敏传感器及制备方法 | ||
申请号 | CN201610496714.5 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN106129244A | 公开(授权)日 | 2016.11.16 |
申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 鲁军;赵旭鹏;毛思玮;朱礼军;赵建华 |
主分类号 | H01L43/08(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L43/08(2006.01)I;H01L43/10(2006.01)I;H01L43/12(2006.01)I |
专利有效期 | L10?MnGa或MnAl基宽线性响应磁敏传感器及制备方法 至L10?MnGa或MnAl基宽线性响应磁敏传感器及制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种L10?MnGa或MnAl基宽线性响应磁敏传感器,包括:一基片,为后续生长的多层膜提供外延基础;一平滑层,其制作在基片上,提供良好的界面平整度和晶格匹配;一参考磁性层,其制作在平滑层上,拥有高晶体质量;一中间层,其制作在参考磁性层上;一探测磁性层,其制作在中间层上,外延生长;一覆盖层,其制作在探测磁性层上,起到保护薄膜的作用。本发明提供一种工艺简单、低成本、宽线性响应范围和高灵敏度的磁敏传感器。 |
交易流程
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专利 -
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