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一种用于点源透过率测试的改进型腔体

  • 申请号:CN201820061726.X
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN207742114U
  • 公开(公开)日:2018.08.17
  • 法律状态:
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种用于点源透过率测试的改进型腔体
申请号 CN201820061726.X 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN207742114U 公开(授权)日 2018.08.17
申请(专利权)人 中国科学院西安光学精密机械研究所 发明(设计)人 李朝辉;李晓辉;赵建科;徐亮;刘峰;张玺斌;于敏
主分类号 G01N21/59(2006.01)I IPC主分类号 G01N21/59(2006.01)I
专利有效期 一种用于点源透过率测试的改进型腔体 至一种用于点源透过率测试的改进型腔体 法律状态
说明书摘要 本实用新型属于光学系统杂散光测试领域,涉及一种用于点源透过率测试的改进型腔体。包括密封腔体及设置在密封腔体外部的光陷阱;密封腔体的侧壁由横截面为优弧的两个曲面对接而成;两个曲面的对接处设入光口;密封腔体的顶部与底部通过平板密封;光陷阱位于与入光口相对的两个曲面的对接处;光陷阱的横截面为等腰梯形。排除了PST测试结果中的“尖峰”噪点。

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