专利详情

专利名称	一种基于水下探测的全海深高强度耐压光谱分析装置
申请号	CN201721882642.4	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN207742102U	公开（授权）日	2018.08.17
申请（专利权）人	中国科学院西安光学精密机械研究所	发明（设计）人	李学龙;胡炳樑;张兆会;于涛;张周锋;刘宏;李洪波
主分类号	G01N21/25(2006.01)I	IPC主分类号	G01N21/25(2006.01)I;G01N21/01(2006.01)I
专利有效期	一种基于水下探测的全海深高强度耐压光谱分析装置至一种基于水下探测的全海深高强度耐压光谱分析装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型涉及一种基于水下探测的全海深高强度耐压光谱分析装置，解决现有海洋光学仪器耐压性能低、密封性能低、仪器不能在全海深环境下可靠地工作等问题。该装置包括外壳、电池组件、闪烁光源、电路控制处理系统、物镜镜筒、第一准直物镜组、第二准直物镜组、狭缝、光栅和线阵探测器；外壳包括依次设置的密封盖板、电池外壳、主壳体和光栅座；电池组件设置在电池外壳内，闪烁光源和电路控制处理系统设置在光源板上，光源板固定设置在主壳体内；狭缝、光栅、线阵探测器固定设置在光栅座上；主壳体上设置有向内凹的样品池，两个物镜镜筒分别设置在样品池的两侧，并与主壳体固定连接，第一准直物镜组和第二准直物镜组分别设置在物镜镜筒内部。