专利详情

专利名称	一种磁控溅射镀膜用加热装置
申请号	CN201721780875.3	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN207727139U	公开（授权）日	2018.08.14
申请（专利权）人	中国科学院深圳先进技术研究院	发明（设计）人	邹建雄;鲁远甫;魏广路;李锐;焦国华;吕建成
主分类号	C23C14/35(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/35(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I
专利有效期	一种磁控溅射镀膜用加热装置至一种磁控溅射镀膜用加热装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜用加热装置，包括固定设置的加热盘、相对于所述加热盘转动的支架及容置于所述支架内随所述支架转动的样品夹具，所述支架包括上下依次间隔设置且相对固定的第一支板和第二支板，所述加热盘设于所述第一支板和所述第二支板之间，所述第二支板上与加热盘相对的部位设有用于容置所述样品夹具的第一卡孔，所述样品夹具包括与所述加热盘相对的吸热层、设于所述吸热层下方的托盘、及设于所述吸热层与所述托盘之间的导热层，所述托盘用于承托样品并使样品背离所述导热层的表面暴露于所述托盘下表面以进行溅射镀膜。本实用新型提供了一种磁控溅射镀膜用加热装置，以对磁控溅射装置中样品基片进行高效均匀加热。