专利详情

专利名称	CaF2光学薄膜元件的制备方法及CaF2光学薄膜元件
申请号	CN201611168144.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106405688A	公开（授权）日	2017.02.15
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	邓文渊;金春水;靳京城;李春
主分类号	G02B1/10(2015.01)I	IPC主分类号	G02B1/10(2015.01)I;G02B1/14(2015.01)I
专利有效期	CaF2光学薄膜元件的制备方法及CaF2光学薄膜元件至CaF2光学薄膜元件的制备方法及CaF2光学薄膜元件	法律状态	公开
说明书摘要	本发明涉及一种CaF₂光学薄膜元件的制备方法，包括以下步骤：对CaF₂光学基底表面及亚表面层进行有效表征；对CaF₂光学基底表面及亚表面层进行超光滑处理，获得缺陷含量更低的CaF₂光学基底表面及亚表面层；在CaF₂光学基底表面镀制薄膜得到CaF₂光学薄膜元件。本方案可以有效提高CaF₂光学薄膜元件抗深紫外激光辐照的能力，有效延长CaF₂光学薄膜元件在深紫外波段高重频和高平均功率密度条件下的工作寿命。