专利详情

专利名称	一种薄形平面光学元件磁性消应力上盘方法
申请号	CN201610551553.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106181676A	公开（授权）日	2016.12.07
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	高文兰;朱宝玪;徐学科;顿爱欢;吴福林;邵建达
主分类号	B24B13/005(2006.01)I	IPC主分类号	B24B13/005(2006.01)I;B24B13/00(2006.01)I
专利有效期	一种薄形平面光学元件磁性消应力上盘方法至一种薄形平面光学元件磁性消应力上盘方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种薄形平面光学元件磁性消应力上盘方法：1)加工直径为2?10mm，厚度2?5mm的圆柱形磁铁块；2)对加工好的圆柱形磁铁块进行充磁，3)用研磨的方法将上盘基板工作面的平面度误差降低至小于0.01mm；4)将圆柱形的磁铁块按所设计的排列方式放置在上盘基板的工作面上；5)将待加工元件清洗干净，在上盘面贴一层粘结膜(双面胶)，然后垂直施加压力使得待加工元件与上盘基板间的圆柱形磁铁块完全接触。本发明方法工艺简单，易操作，保持操作环境干净无污染，按此方法上盘的元件完成加工，下盘后可保持元件面形不变，适用于批量生产高精度薄形平面元件。