一种硼掺杂金刚石电极
- 申请号:CN201721474192.5
- 专利类型:实用新型
- 申请(专利权)人:深圳先进技术研究院
- 公开(公开)号:CN207646292U
- 公开(公开)日:2018.07.24
- 法律状态:
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专利详情
专利名称 | 一种硼掺杂金刚石电极 | ||
申请号 | CN201721474192.5 | 专利类型 | 实用新型 |
公开(公告)号 | CN207646292U | 公开(授权)日 | 2018.07.24 |
申请(专利权)人 | 深圳先进技术研究院 | 发明(设计)人 | 杨扬;唐永炳;谷继腾 |
主分类号 | C23C28/04(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C28/04(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C16/27(2006.01)I;C23C14/32(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C02F1/461(2006.01)I;C02F1/72(2006.01)I;C02F101/30(2006.01)N |
专利有效期 | 一种硼掺杂金刚石电极 至一种硼掺杂金刚石电极 | 法律状态 | |
说明书摘要 | 本实用新型提供了硼掺杂金刚石电极,包括电极基底,设置在所述电极基底一侧或两侧的过渡层,以及设置在所述过渡层上的硼掺杂金刚石薄膜层,所述过渡层为二硼化钛层、二硼化铌层、二硼化钽层或二硼化钨层,所述电极基底为钛基底、铌基底、钽基底或钨基底。该硼掺杂金刚石电极采用二硼化钛等材料在电极基底与硼掺杂金刚石薄膜之间形成过渡层,有效抑制了金属基底表面疏松碳化物层的形成,提高了硼掺杂金刚石薄膜和基底间结合力,且硼掺杂金刚石薄膜质量高,膜层致密无孔洞,将其用于电化学高级氧化法处理高浓度有机废水的阳极,耐腐蚀性强,电极工作寿命长,处理效率高。 |
交易流程
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