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抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统

  • 申请号:CN201721747479.0
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN207636278U
  • 公开(公开)日:2018.07.20
  • 法律状态:
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统
申请号 CN201721747479.0 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN207636278U 公开(授权)日 2018.07.20
申请(专利权)人 中国科学院西安光学精密机械研究所 发明(设计)人 闫亚东;何俊华;张敏;韦明智;薛艳博;许瑞华
主分类号 G01M11/02(2006.01)I IPC主分类号 G01M11/02(2006.01)I
专利有效期 抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统 至抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统 法律状态
说明书摘要 本实用新型属于光学测量技术领域,具体涉及一种抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统。该测量系统包括取样装置和测量装置,取样装置包括球状真空靶室和成像镜头,球状真空靶室内设置有靶点和带有打靶激光通道的漫反射板,漫反射板附着于球状真空靶室内壁上;球状真空靶室的球壁上设置有测量窗口;打靶激光入射靶点产生的近背向散射光沿打靶反方向散射后由漫反射板产生漫反射,漫反射光穿透测量窗口后再通过成像镜头进入测量装置;成像镜头将漫反射板成像于一次像面,一次像面所在的平面上设置有隔离屏,隔离屏带有多个通光孔。本实用新型通过设置隔离屏,排除了靶室内壁散射的杂光进入诊断光路的可能性,起到了杂散光屏蔽的效果。

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