专利详情

专利名称	光刻机照明均匀性校正装置和校正方法
申请号	CN201710000725.4	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN107065443A	公开（授权）日	2017.08.18
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	程伟林;张方;杨宝喜;黄惠杰
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	光刻机照明均匀性校正装置和校正方法至光刻机照明均匀性校正装置和校正方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种光刻机照明均匀性校正装置和校正方法，校正装置包括基座、上校正模块和下校正模块。上校正模块与下校正模块放置于照明光场的扫描方向的两侧，且相对于照明光场非扫描方向对称分布。其中上校正模块与下校正模块中均有一块柔性薄板，通过控制该柔性薄板横截面上不同点的位移来得到相应的挠曲变形，并沿照明光场扫描方向运动进入照明光场以遮挡部分照明光，从而达到校正照明均匀性的目的。因柔性薄板发生挠曲变形后的轮廓为连续曲线，所以本发明的装置具有更高的校正能力和校正分辨率。