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深空微区自适应激光光谱及成像探测系统

  • 申请号:CN201721316898.9
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所
  • 公开(公开)号:CN207528634U
  • 公开(公开)日:2018.06.22
  • 法律状态:
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 深空微区自适应激光光谱及成像探测系统
申请号 CN201721316898.9 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN207528634U 公开(授权)日 2018.06.22
申请(专利权)人 中国科学院上海技术物理研究所 发明(设计)人 万雄;王泓鹏;袁汝俊;张铭;何强
主分类号 G01N21/65(2006.01)I IPC主分类号 G01N21/65(2006.01)I;G01N21/64(2006.01)I
专利有效期 深空微区自适应激光光谱及成像探测系统 至深空微区自适应激光光谱及成像探测系统 法律状态
说明书摘要 本专利公开了一种深空微区自适应激光光谱及成像探测系统,该系统由主控制器、光谱仪、光纤、三维电机驱动器、三维精密电动平台、数字脉冲延迟控制器与光学头部组成。本专利的有益效果是,提供了一种自适应激光光谱及成像探测系统,可在微区分析时自适应地调整聚焦光斑的直径;将电子目镜的区域平均灰度作为扫描成像点强度,同时满足自聚焦和宽谱扫描成像的要求;可同时实现三维空间LIBS元素分析、主动激光拉曼分子分析、高光谱荧光、可见宽谱扫描成像,提供多种信息以进行微区精细探测。

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