深空微区自适应激光光谱及成像探测系统
- 申请号:CN201721316898.9
- 专利类型:实用新型
- 申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所
- 公开(公开)号:CN207528634U
- 公开(公开)日:2018.06.22
- 法律状态:
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专利详情
专利名称 | 深空微区自适应激光光谱及成像探测系统 | ||
申请号 | CN201721316898.9 | 专利类型 | 实用新型 |
公开(公告)号 | CN207528634U | 公开(授权)日 | 2018.06.22 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明(设计)人 | 万雄;王泓鹏;袁汝俊;张铭;何强 |
主分类号 | G01N21/65(2006.01)I | IPC主分类号 | G01N21/65(2006.01)I;G01N21/64(2006.01)I |
专利有效期 | 深空微区自适应激光光谱及成像探测系统 至深空微区自适应激光光谱及成像探测系统 | 法律状态 | |
说明书摘要 | 本专利公开了一种深空微区自适应激光光谱及成像探测系统,该系统由主控制器、光谱仪、光纤、三维电机驱动器、三维精密电动平台、数字脉冲延迟控制器与光学头部组成。本专利的有益效果是,提供了一种自适应激光光谱及成像探测系统,可在微区分析时自适应地调整聚焦光斑的直径;将电子目镜的区域平均灰度作为扫描成像点强度,同时满足自聚焦和宽谱扫描成像的要求;可同时实现三维空间LIBS元素分析、主动激光拉曼分子分析、高光谱荧光、可见宽谱扫描成像,提供多种信息以进行微区精细探测。 |
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