专利详情

专利名称	一种浮动研磨头和抛光头机构
申请号	CN201610856671.7	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN106239359A	公开（授权）日	2016.12.21
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	焦翔;朱健强
主分类号	B24B41/00(2006.01)I	IPC主分类号	B24B41/00(2006.01)I;B24B37/11(2012.01)I;B24B29/00(2006.01)I
专利有效期	一种浮动研磨头和抛光头机构至一种浮动研磨头和抛光头机构	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种浮动研磨头和抛光头机构，主要包括研磨盘或抛光盘、固定头、锁紧板、下转板、下侧板、传动转子、上侧板轴承滚轮组、下侧板轴承滚轮组、上侧板、上转板、滑动轴套、转动轴、弹簧、弹簧限位板和传动销等组成，其中传动转子上设有两组圆弧导轨，两组圆弧导轨圆柱面的轴线垂直相交，调节研磨盘或抛光盘的高度使研磨面或抛光面过轴线交点，研磨或抛光时可消除倾覆力矩，极大地提高研磨或抛光压力的均匀性，并使得在浮动加工中使用更小的研磨头或抛光头成为现实，本发明适用于高精度抛光或研磨。