基于单次曝光模式的光栅衍射效率光谱的测量装置和方法
- 申请号:CN201610242396.X
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号:CN105928688A
- 公开(公开)日:2016.09.07
- 法律状态:实质审查的生效
- 出售价格: 面议 立即咨询
专利详情
专利名称 | 基于单次曝光模式的光栅衍射效率光谱的测量装置和方法 | ||
申请号 | CN201610242396.X | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN105928688A | 公开(授权)日 | 2016.09.07 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明(设计)人 | 刘世杰;王圣浩;张志刚;李灵巧;王微微;周游;潘本威;白云波 |
主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M11/02(2006.01)I;G01J3/28(2006.01)I |
专利有效期 | 基于单次曝光模式的光栅衍射效率光谱的测量装置和方法 至基于单次曝光模式的光栅衍射效率光谱的测量装置和方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种原位时间分辨光栅衍射效率光谱的测量装置,包括光源模块、参考光模块和测试光模块,光源模块为测试系统提供光源,参考光模块由凹面准直镜、标准参考光栅、凹面聚焦镜和线阵CCD探测器组成,用于测量参考光束的光谱参数;测试光模块由凹面准直镜、待测光栅、凹面聚焦镜和线阵CCD探测器组成,用于测量测试光束的光谱参数。本发明提高了光栅衍射效率光谱的测试速度,可以实现超快速的光栅衍射效率光谱的测量,可以应用于原位时间分辨光栅衍射效率光谱的测量环境中;在测量过程中,仪器的所有机械结构保持静止,测试系统因而具有较高的机械稳定性。 |
交易流程
-
01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
- 04 上报材料
-
05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
- 07 交付证书
过户资料
平台保障
1、源头对接,价格透明
2、平台验证,实名审核
3、合同监控,代办手续
4、专员跟进,交易保障
- 用户留言
暂时还没有用户留言