专利详情

专利名称	一种纳米压印设备
申请号	CN201610105094.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN105739247A	公开（授权）日	2016.07.06
申请（专利权）人	中国科学技术大学	发明（设计）人	王亮;谈浩森;汪仲儒;许凯;张博健;李晨晖
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	一种纳米压印设备至一种纳米压印设备	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种纳米压印设备，包括纳米压印头，纳米压印头上设置有纳米压印模板，纳米压印模板的下方设置有透明的压印衬底，压印衬底的下方设置有曝光光源，曝光光源为UV?LED光源。UV?LED光源安全无污染，且不会产生有害气体，所以可以将光源设置在纳米压印头的外部，且位于压印衬底的下方。压印模板不需要使用透明材质制造，降低了压印模板的制造要求。使用UV?LED光源还可以提高纳米压印设备的使用寿命，因为UV?LED的使用寿命长，不受开闭次数的影响，可以降低生产成本，并有效降低人工维护次数。另外，UV?LED为冷光源，不会产生热辐射，可以适用于热敏材料的粘接，在使用中无需等待预热，且照射强度更强。