专利详情

专利名称	高衬度低剂量相位衬度CT成像装置
申请号	CN201721367057.0	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN207457480U	公开（授权）日	2018.06.05
申请（专利权）人	中国科学院苏州生物医学工程技术研究所;中国科学技术大学	发明（设计）人	雷恒波;孙明山;杨晓冬;曾维俊;孙海旋;王钟周;王骏;陆亚林;田扬超
主分类号	G01R33/48(2006.01)I	IPC主分类号	G01R33/48(2006.01)I
专利有效期	高衬度低剂量相位衬度CT成像装置至高衬度低剂量相位衬度CT成像装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型公开了一种高衬度低剂量相位衬度CT成像装置，包括：基座、旋转台、成像平台及沿轴向嵌入设置在所述旋转台内部圆心处的样品台；所述成像平台上沿光路方向依次设置有X射线光源、源光栅、分束光栅、供所述样品台的上部伸缩穿出的开孔、分析光栅和探测器；所述的源光栅、分束光栅和分析光栅均为弧形状，其圆心均位于所述X射线光源处。本实用新型的高衬度低剂量相位衬度CT成像装置能够利用高能量的X光源实现较大的穿透深度，从而应用于厚样品(几十厘米)乃至人体的高衬度、低剂量成像。并且本实用新型的成像装置既能实现样品台旋转，又能实现成像系统旋转，稳定可靠、能够提供该成像技术所需要的精度要求。