专利详情

专利名称	一种磁流变抛光加工系统
申请号	CN201721458471.2	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN207387245U	公开（授权）日	2018.05.22
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	张学军;薛栋林;李龙响;宋驰;张鑫
主分类号	B24B1/00(2006.01)I	IPC主分类号	B24B1/00(2006.01)I;B24B29/02(2006.01)I;B24B41/06(2012.01)I;B24B57/02(2006.01)I;B24B41/02(2006.01)I
专利有效期	一种磁流变抛光加工系统至一种磁流变抛光加工系统	法律状态
说明书摘要	本实用新型提供的磁流变抛光加工系统，包括机械臂，磁流变抛光轮与机械臂相连，磁流变循环系统与循环系统支撑机构相连，工件(如光学元件)固定在工作台上，磁流变循环系统通过循环供给回路与磁流变抛光轮连接，磁流变抛光轮在运动程序控制下由机械臂带动，利用磁流变工作原理，对工作台上的工件进行加工，同时，在循环系统支撑机构的支撑下，磁流变循环系统实现对磁流变抛光轮的液体供给与循环支持，保证磁流变系统正常工作，通过利用机械臂的空间六自由度、速度、和加速度优势，结合磁流变抛光模块本身的运动特性要求，使得加工过程更佳高效和高速，也进一步提升了打磨抛光的整体效率。