专利详情

专利名称	超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统
申请号	CN201721383329.6	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN207347661U	公开（授权）日	2018.05.11
申请（专利权）人	中国科学院近代物理研究所	发明（设计）人	游志明;何源;熊平然;郭浩;李璐
主分类号	C23F3/06(2006.01)I	IPC主分类号	C23F3/06(2006.01)I;C23F1/08(2006.01)I
专利有效期	超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统至超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统	法律状态
说明书摘要	本实用新型涉及离子加速器超导腔加工技术领域，尤其是涉及一种超导腔整腔表面化学缓冲全自动抛光系统。其特点是包括混酸槽，混酸槽上端通过管路与制冷机组相连，混酸槽内设置有热交换器，混酸槽下端通过管路与酸液输送泵相连，酸液输送泵通过管路与过滤器相连，过滤器通过管路与超导腔下端和超纯水水泵相连，超纯水水泵通过管路与超纯水水箱相连，超导腔上端通过管路分别与混酸槽上端和观察窗相连，高纯氮气罐通过管路与混酸槽与超导腔之间的管路相连；其通过采用计算机对酸液的流量、流速、温度、压力和时间进行严格控制，可以实现多型号超导腔的化学缓冲抛光。而且具有很强的抗腐蚀性、高度的安全性、可靠性、可控性和易操作性。