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采用多探测器的光场光强分布测量方法

  • 申请号:CN201710142748.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN107036710A
  • 公开(公开)日:2017.08.11
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 采用多探测器的光场光强分布测量方法
申请号 CN201710142748.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN107036710A 公开(授权)日 2017.08.11
申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明(设计)人 唐锋;王向朝;郭福东
主分类号 G01J1/42(2006.01)I IPC主分类号 G01J1/42(2006.01)I
专利有效期 采用多探测器的光场光强分布测量方法 至采用多探测器的光场光强分布测量方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种采用多探测器的光场光强分布测量方法,该方法利用的系统包括光电传感单元、精密扫描台、信号处理与控制单元;采用的光电传感单元1包含2个以上的点探测器;精密扫描台带动光电传感单元扫描实现待测光场时,至少有一个参考探测器位于已检测位置,并通其光强检测值对传感探测器的光强检测值进行修正,消除光源光强波动对光强分布检测结果的影响。具有实现容易,结构简单,成本低的优点。

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