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双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池

  • 申请号:CN201720645616.3
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 公开(公开)号:CN207282509U
  • 公开(公开)日:2018.04.27
  • 法律状态:
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池
申请号 CN201720645616.3 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN207282509U 公开(授权)日 2018.04.27
申请(专利权)人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明(设计)人 刘正新;孟凡英;张丽平;石建华;俞健;刘金宁;刘毓成
主分类号 H01L31/072(2012.01)I IPC主分类号 H01L31/072(2012.01)I;H01L31/0216(2014.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I
专利有效期 双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池 至双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池 法律状态
说明书摘要 本实用新型提供一种双面受光的晶体硅/薄膜硅异质结太阳电池,包括:n型硅衬底;窗口层,包括具有宽光学带隙的本征非晶硅或者微晶硅以及n型掺杂的非晶硅或者微晶硅;背场层,包括本征非晶硅或者微晶硅以及p型掺杂的非晶硅或者微晶硅;第一透明导电薄膜;第二透明导电薄膜;第一电极;以及第二电极。本实用新型的双面受光太阳电池使用具有宽光学带隙、低缺陷密度的本征非晶硅或者微晶硅以及n型非晶硅或者微晶硅薄膜叠层作为窗口层,有效降低窗口层的缺陷密度,减少对太阳光的吸收损失,提高太阳电池和光伏组件的光电转换效率和发电功率输出。与现有的HIT电池相比,本实用新型具有更宽的工艺窗口,有利于大批量生产的工艺控制和管理。

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